第223章 複製5nm生產設備

 現如今，次元空間的體積，增大了十倍，達到了一百萬立方米，表現出來，就是面積增加了五倍，高度增加了兩倍。原來的芯片生產線和各種物品，只佔據了空間正中不大一片位置，四周是一片空曠。而複製出來的duv光刻機，就出現在了新出現的空地上。 

 喬瑞達操控意識體，在全新的次元空間內逛了一圈，心裡規劃著新出現的這些空地，要如何利用。要不弄一套十年後的芯片生產線出來，就在別人還在為28nm芯片的量產而慶賀歡呼的時候，自己這裡已經悄悄的完成了5nm芯片的流片測試，這種場景，想想就刺激。 

 十分鐘之後，喬瑞達的意識體終於來到了這臺嶄新的euv光刻機的面前，伸出右手，觸摸著光刻機冰冷的金屬外殼，和半透明的玻璃觀察窗，他激動的心情，久久難以平息。 

 按照喬瑞達前世瞭解到的信息，早在2006年的時候，阿斯麥就推出了第一代euv（極紫外光刻機）演示機。在2010年時，AsmL推出了第二代euv光刻機nxe:3100。2013年，AsmL推出了量產型號nex:3300B，而2015年又推出了nxe 3350B，但這早期的產品，主要是各大晶圓、研究中心用來測試等，並沒有用於芯片的量產。直到2017年，AsmL有了真正的大進步，推出了twinsCAn nxe:3400B，這一代euv光刻機，能夠支持7納米和5納米節點的euv量產，於是引爆了AsmL市場。 

 受到某些共所周知的限制，以上這些euv光刻設備中的任何一個型號，任何一臺，都沒有出現在華夏大陸，甚至某些高端的duv光刻機的進口都會受到限制。這也就造成了國內的芯片生產能力，一直嚴重落後於世界主流水平，高端芯片，一直依賴於進口，經常受制於人。 

 但是現在，在12年的當下，一臺國內芯片人極度渴望，價值上億美刀的euv光刻機，就那麼隨意的擺在喬瑞達的面前，這讓他如何不激動，如何不興奮。喬瑞達的意識體，圍著這臺euv光刻機轉了一圈又一圈，設備上每一個顯示面板，每一個按鈕都被他看了一個遍。