第226章 縱論EUV（上）

 作為一名芯片製程工藝研究員，周萬達太清楚euv光刻機的威力了。當前市面上主流的浸潤式duv光刻機，常規加工精度是28nm。即使使用套刻、多次曝光等工藝，duv光刻機的加工精度最多提升到7nm，而且會存在步驟繁瑣、加工難度大、良品率低等諸多的缺點。如果有了euv光刻機，那就完全不同了，euv由於採用了極紫外光對硅晶圓進行加工，可以把加工精度做到很小，起步就是7nm，具有加工速度快、良品率高、等優點，生產出來的芯片，性能強大，發熱低。後續採用一些其他工藝，還能加工出5nm、3nm，甚至2nm的芯片，絕對是未來芯片加工的發展方向。 

 “咦，周老師，你又沒見到euv光刻機的實物，也沒進行過任何測試，為何會如此看好這臺光刻機，不惜重金也要買一臺？”這個型號的euv光刻機的性能，喬瑞達在次元空間內做過測試，這才知道它的厲害。周萬達又沒做過測試，甚至連這臺euv光刻機的樣子都沒見過，就如此果斷的要花錢求購，當真奇怪。 

 周萬達嘿嘿一笑，說出了一些喬瑞達不知道的內幕消息，“嘿嘿，這不是見獵心喜嗎，euv光刻機，多麼高大上的設備，全世界，只有阿斯麥公司能生產，而且只有幾臺樣機，尚未量產交付。如果咱們北大的芯片實驗室能夠搞到一臺，即使不能用於芯片的量產，只用來搞一下尖端芯片的流片測試，和7nm以下芯片加工工藝的摸索，也是賺大了。 

 咱們北大芯片實驗室內，那套芯片生產線你也見過，都是五年前的老傢伙了，即使我們做了不少的改造升級，生產40nm芯片，已經是它的極限了，在也沒有什麼潛力可挖。而且存在著生產成本過高，合格率低下等諸多缺陷。早在去年的時候，我和老師，參加了你們瑞達電子廠芯片生產線的安裝和調試工作，當時看到你們那套浸潤式duv光刻機、和配套生產線，我們就羨慕的不行。回到學校之後，我老師就打報告上去，申請經費，對芯片實驗室的生產線，進行更新換代。